学歴

• 平澤高等学校卒業 (1987)
  
• ソウル大学材料工学部卒業 (1993)
  
• ソウル大学大学院材料工学専攻卒業 (修士, 1995)

キャリア

• 現代電子産業株式会社 (現,株式会社Hynix半導体) メモリー研究所 (1995-2000)
• 弁理士試験第39回合格 (2002)
• 星友国際特許法律事務所弁理士 (2002-2004)
• 米国 University of Washington School of Law, 客員 学者 (2014 - 2015)
• 特許法人 AIP (2004-現在)

著書/論文

• “TSSG法によるBa1-xSrxTiO3単結晶成長”，修士学位論文, ソウル大学
• “A study on the application limit for Ion Metal Plasma deposited titanium film in deep metal contacts”, p299, 16th VMIC(1999)
• 特許登録10-0187683-00-00号 (1999.1.06) “半導体素子の金属層の構造”, その他20件