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半導体用の亜酸化窒素の製造工程に係る特許事件

半導体用産業ガスの生産社であるHマテリアルズは、競争会社であるW社より特許侵害及び損害賠償請求訴訟を提起されました。Hマテリアルズは、生産設備をSマテリアルズにしたが、円渡契約のためには特許問題の解決がっている況でありました。Hマテリアルズを代理した弊所は、無審判及び利範確認審判を請求し、W社の特許に迫を加え、その結果、W社はHマテリアルズとSマテリアルズへの特許の行使を放棄することになり、3社間の特許紛は、合意終結されました。