半導体用の亜酸化窒素の製造工程に係る特許事件 半導体用産業ガスの生産会社であるHマテリアルズは、競争会社であるW社より特許侵害及び損害賠償請求訴訟を提起されました。Hマテリアルズは、生産設備をSマテリアルズに譲渡したが、円満な譲渡契約のためには特許問題の解決が残っている状況でありました。Hマテリアルズを代理した弊所は、無効審判及び権利範囲確認審判を請求し、W社の特許に圧迫を加え、その結果、W社はHマテリアルズとSマテリアルズへの特許権の行使を放棄することになり、3社間の特許紛争は、合意終結されました。 リスト